据美国官网近日报道，该校研究团队开辟出一种新工艺及打印设备，能正在纳米标准上更高效地制制先辈的电子产物和芯片，其制形成本仅为保守手艺的1%。再“蚀刻”掉多余部门。每层材料形成电子电的一部门，多层材料叠加建立，最终构成一个微处置器或存储芯片。并且，每种材料需要分歧工艺进行处置。

　　为了降低电子产物和芯片的制形成本，团队开辟出一种增材“自下而上”的制制工艺。他们抽象地比方道，新工艺无需剔除任何材料，只需正在合适按需放置材料即可。这些材料可利用很是小的颗粒快速堆积，可正在一分钟内建制出小至25纳米的布局。新方式不只产量高，并且成本极低。